• 입자크기 • 입자분포 • 개수분율 |
제조단위 간 편차는 동일 나노물질에 해당 |
전자현미경 (SEM, TEM 등) 권고 그 외 필요한 방법 |
히스토그램 및 표 d10, d50, d90 수치 하나의 외부 치수가 1-100 nm인 입자의 분율(50-100%) |
각 형태별 크기는 별개로 보고 |
• 입자형태 • 종횡비 • 기타 특성 |
제조단위 간 편차는 동일 나노물질에 해당 제조공정에 따라 서로 다른 형태의 입자들이 동시에 존재할 수 있음 |
전자현미경 (SEM, TEM 등) 권고 그 외 필요한 방법 |
해당 되는 형태 범주 각 형태별 구성 분율(%) 조립 구조의 벽 또는 층의 개수 가늘고 긴 형 및 판형의 경우, 종횡비(필수) 및 강도(권고) |
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• 결정상 |
제조단위 간 편차는 동일 나노물질에 해당 서로 다른 결정 구조의 입자들이 동시에 존재할 수 있음 |
전자 회절 또는 X선 회절 (XRD) 또는 X-ray 흡수분광법 (XAS) 등 정량을 위한 리트벨트법(Rietveldmethod) 등 그 외 필요한 방법 |
결정상 명칭 각 결정상 별 구성 분율(%) |
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• 표면작용기 • 표면처리 • 처리제 |
제조단위 간 편차는 동일 나노물질에 해당 |
나노물질 및 처리제에 따라 적절한 측정법 사용 (IR, NMR, TGA, ICP-MS, XRF, XPS, EDX, GC-MS,MALDI-TOF 등) |
처리제 정보(물질명, EC/CAS 번호 등) 처리공정 표면 처리제의 몰비 도입된 기능기에 대한 설명 입자의 총 중량에 대한 표면 처리제의 중량 기여도 처리로 인해 변형된 표면의 분율 |
모식도 첨부 권고 |
• 비표면적 |
제조단위 간 편차는 동일 나노물질에 해당 |
BET (ISO 9277:2010) 골격 밀도 (ISO 12154:2014) |
비표면적 수치 골격 밀도 (BET 측정의 경우) |
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